极紫外光刻技术的另一大瓶颈无疑就是光刻胶了。
目前的行业现状是，半导体材料的供应都是十分集中的，而光刻胶技术算是全球集中度最高，并且壁垒也是最高的材料，被日本和北美合计占领了95%的市场份额。
三星电子半导体固然牛气哄哄，也却是很有实力，但实际上得看日本人的脸色，如果日本的半导体材料商在材料这块卡一下，三星半导体就要趴窝。
休息室里正在进行临时的技术交流探讨，一位负责光刻胶技术的工程师有条不紊的说道：“在248纳米和193纳米的光刻中，主流有超过二十年之久都是使用有机化学放大光刻胶car，这是一种用来制作图案成型的光敏聚合物。”
在极紫外光刻机下，光子专机car光刻胶并产生光酸，之后car光刻胶在曝光后的过程中进行光酸催化反应，进而产生光刻图案。
原理就是这么个原理。
那名工程师继续道：“把car光刻胶用于极紫外光刻技术上，但因为光源能量大幅度增加了，之前的实操结果显示会出现不同且复杂的结果，进而影响芯片的良品率。”
罗晟点点头，说道：“到了euv技术节点，这个不单单是我们的问题，竞争者也一样会遇到类似问题，还是得开拓新思路，想来当前业界其它的半导体设备、材料商都会想尽各种方式，或者提出新的光刻胶技术解决方案，让极紫外光刻技术可以持续使用，从而延续摩尔定律的寿命。”
刚刚那名工程师再次说道：“新思路方面，我们项目组有多个团队针对新的euv光刻胶在进行多种方向的尝试，例如仍然是液态式的金属氧化物光刻胶，还有干式的光刻胶等方向的研发。”
罗晟想了想沉声道：“不能我们自己闷声干，新的euv光刻胶技术最好是百家争鸣，利用养蛊策略养出一个光刻胶领域的as游戏主机、azure智能手机、iep平板，以及另一大即将展开的副业pc业务都要创造稳定的收入来源，以此保证利润来维持目前公司的造血循环的稳定。
姚建鸿低头沉思了片刻，旋即看向罗晟道：“你的意思是……”
罗晟与之对视：“我们现在的实际情况是，还有60%的技术环节被卡着的，想要完全突破可能要再等个三五年后，这是客观的事实，技术研究突破还带有一定的偶然性，不是说我砸了多少钱钱进去，投入了多少就一定有产出的。”
姚建鸿点点头，但并没有接话，而是继续听着。
罗晟补充道：“虚虚实实，真真假假，紫星光刻机的突破是事实，这是我们最大的谈判筹码所在，能唬住老外。”
说到这里，罗晟不禁惬意的一笑，姚建鸿稍加思索，细品了一下罗晟的这番话，不消片刻便豁然开朗。
“罗总，你的意思是，对外宣布不仅仅是极紫外光刻机技术突破了，而是半导体全产业链的各大关键技术环节均已突破，或者突破只是时间问题，实际上并没有全都突破，但因为连极紫外光刻机都搞定了，这就会给外人一种假象，其他技术环节也基本打通了，从而获得谈判主导权。”
罗晟笑而不语，但点了点头表示认可。
站在竞争者的角度来看待这个问题，技术封禁既然已经对罗晟没有太多的作用了，那么继续封禁也就没有多大的意义了。
其实这有赌的成分在里面，赌的就是那些国际半导体厂商相信罗晟的国产半导体全产